1、精密反射式光栅的压印制造技术
       精密光栅是高档数控机床、IC 制造装备、空天观测装置、精密测量/分析仪器等高端装备的关键部件。国内尚不具备精密光栅的制造能力，只能用国外中低档玻璃光栅(精度>±3μm/m)作为模版进行复制。基于光刻工艺的精密光栅制造技术门槛不断被推高，制造成本呈几何量级增加。该项目经过 14 年的系统研究，发明了精密反射式光栅的纳米压印制造工艺，开发了新型大间隙、高容差光栅读数系统，实现了工业应用。项目在研究过程中获授权发明专利23项，其他知识产权5项；申报国家标准制定1项；发表SCI/EI论文202篇(SCI他引153次)。德国SUSS公司纳米压印设备研究部副主任Ing. Ran Ji博士、Advanced Materials (IF:14.829)杂志副主编Dave Flanagan 教授、侯洵院士等专家评价为：“原创性工作，令人印象深刻”。该项目开发的精密反射式光栅系列产品推广销售到多家企业，促进了高端装备国产化配套，在推动企业新产品研发等方面起到了显著作用。

       2、数控机床动态误差分析关键技术与应用
       随着数控机床速度的提高，动力学效应引起的误差显著地影响数控机床精度和稳定性，成为开发高档数控机床的瓶颈技术之一。该项目在国家 863 计划、04 重大专项等项目支持下，历时十余年，提出了基于内置传感器的数控机床动态误差测试分析方法，发明了数控机床动态误差在线测试分析和补偿装置，并在我国机床制造企业实现了推广应用。项目研究过程中获授权发明专10项，软件著作权5项，制定企业标准4项；发表EI/SCI论文42篇、他引228次；2篇博士论文获“上银优秀机械博士论文奖”；国家863 验收专家认为：取得重要进展，具有创新性；04专项验收专家认为：较好地完成了合同任务，在多家企业得到应用，推动了我国机床行业的技术进步。